XRF螢光光譜分析(XRF)通常把X光照射在物質上而產生的次级X光叫X光螢光，而把用來照射的X光叫原级X光，通過分析次级X光的方法叫做XRF。利用X光螢光原理,理論上 可以測量元素週期表中的每一種元素。在實際應用中，有效的元素測量範圍為11號元素（Na）到92號元素(U). 一台典型的X光螢光光譜分析,XRF儀器由發射源（X光管）和探測系統構成。X光管產生入射X光（一次X光），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X光，且不同的元素所放射出的二次X光具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來的二次X光的能量及數量。然後，儀器透過軟體將探測系統所收集到的訊息轉換成樣品中各種元素的種類及含 量。作為一種元素分析技術，現下已完全成熟，已廣泛應用于冶金、地質、有色、建材、商檢、環保、衛生等各個領域。 目前X射線螢光光譜分析儀分为波長色散型（WD-XRF）和能量色散型（ED-XRF)兩種形式。

X光螢光分析是廣泛採用的分析技術，對測定各種材料的化學組分提供了非常簡便、準確及經濟的元素分析方法。X光螢光在工業、研究的應用均非常普遍。 物質受到高能量X光照射會放射出特徵X光，透過探測這些特徵X光，光譜儀便能夠有效對物枓進行元素和化學分析。 X光螢光分析是非破壞性的，非常適合固體、液體及粉末，甚至塗層的樣品分析。跟X光繞射分析不一樣，X光螢光分析不需要運用晶體，所以X光螢光還是和檢測玻璃及非結晶的樣品。

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