Phase-Contrast- and Dark-Field-Imaging Made Easy

高性價比x光位相差顯微成像及暗場成像模組

X光位相差顯微(相位襯度)成像和傳統的X光吸收成像相比，X光位相差顯微成像能夠為輕元素樣品提供更高的對比度，特別適合用於對軟組織和輕元素所組成的樣品進行成像。

目前，主要的位相差顯微成像方式中，大部分對光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或使用微焦點X光射線源實現。而光柵法相位差成像，經過十多年的發展，已成為在實驗室實施相位差顯微成像實驗的主流技術路線。

但是，高深寬比和大視野光柵的製作一直是困擾研究人員的一個痛點。直到LIGA技術的出現及成熟，使得製作此類的光柵的製作變得更加的容易及可靠。

基於X光位相差成像的光柵利用Talbot自成像效應來獲取有關X光因為折射和散射而產生的微小角度偏轉的資訊，這在醫學影像到材料研究等各個領域都有潛在的應用。

但對於剛進入此研究領域的研究工作者或想單純快速位相差圖片的使用者來說，繁瑣的光柵參數模擬、全新開模製作光柵價格昂貴、同時精密平移台的選擇及精密調節都將耗費大量的精力。

為了解決的這個問題，德國Microworks公司推出了一套模組化、高性價比的X光位相差顯微、暗場成像套件”TALINT-EDU”。

Microworks的TALINT-EDU系統是一台設計精簡、物美價廉的TALbot干涉儀套件。它是X光Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡化形式，包括所有必要的硬體來建立和微調干涉儀，以及透過相位步進步驟來獲得三種成像模式應用：吸收成像、位相差顯微成像和暗場成像。

它跟其他的探測器相同能在不到半小時的時間內安裝完成，使用手動方式來操作簡單易學的系統來擷取影像，在位像差的步進過程中所獲得的影像非常適合用於影像分析應用。

可根據要求的X光能量、視野或其他方面來進行客製化服務，具體內容請與我們聯絡。